Tanner Analog/mixed-signal IC 全流程
Siemens AMS IC 全流程經過優化，包含高度整合的前端和後端工具，從電路圖輸入到混合訊號模擬和波形檢索、查看及 RTL 網表綜合，再到佈局佈線、物理 layout 實現以及晶圓廠認證的 Calibre® 平台物理驗證。
製程設計套件 (PDK) 是類比和客製設計環境的一個重要組成，包括 OA 數據、CDF、回調、Netlist 程序和參數化單元 (PCell)。 Siemens EDA 可以由第三方 PDK 轉換而來，包括 Callback 和 PCell 代碼。可擴展的 QA 流程可以確保Siemens EDA 全流程實現完全一致且完全兼容的結果。 了解更多 →
L-Edit IC
L-Edit IC 是物理 Layout 工具，可以透過一些進階編輯和易於使用的特色功能加速客製 layout 設計。 L-Edit IC 基於 OpenAccess 並支援 PCell，非常適合為類比和混合訊號設計靈活的 layut 模組。
PCell 是為基本元件而建立並在晶圓代工廠 PDK 中發布，但也可以為邏輯閘構建，同時 L-Edit IC 的環境、選單和快捷鍵也是可以自訂的。 了解更多 →
L-Edit MEMS
Tanner L-Edit MEMS，是一種進階 layout 編輯器，支援對任意形狀、任意曲線的多邊形執行複雜的布林運算和 derived layer 操作，提供了更高的精度。可針對物件執行 AND、OR、XOR、減法、擴展和收縮等運算和操作。
和其他為機械工程設計的 CAD 工具不同，L-Edit MEMS 可顯示光罩的 Clear 和 Dark 區域。因此，您可以快速繪製和編輯光罩，輕鬆查看不同的光罩組合，以檢查它們的重疊和交互情況。 了解更多 →
L-Edit Photonics
積體電路技術和製程的進步，使得運用傳統的 CMOS 製程和材料並將其應用於光子積體電路 (PIC) 的設計成為可能。儘管成熟的 EDA 工具已經協助實現了非常完善的 CMOS IC 設計流程，即便是相對簡單的設計，光子也面臨諸多物理和分析挑戰，需要採用傳統電子 IC 設計不曾採用過的獨特和專有方法。
L-Edit Photonics 具有矽光晶片電路級開發的功能，可以讓使用者基於參數化的 Photonic PDK 快速完成電路級光子 layout 設計。 了解更多 →
Tanner Calibre® One DRC/LVS/xRC
設計人員需要能夠加快產品上市時間的工具。對模擬/混合訊號 (AMS) IC 設計進行物理驗證時，速度是關鍵。 Calibre 驗證工具套件和 Tanner L-Edit IC Layout 整合，從而能夠精確找出錯誤、快速完成修改並加快除錯速度。所有主要的晶圓代工廠都採用 Calibre 作為 sign-off 標準，這確保了驗證結果的準確性，並為首次投片即成功奠定了基礎。 了解更多 →