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加速第三代半導體功率元件的設計與進階驗證 技術研討會
9月29日 週三
|Webinar
本次線上研討會,將邀請Siemens EDA原廠技術專家,介紹如何使用Tanner L-Edit快速完成Layout 及使用Calibre驗證 Design Rule Check (DRC),掌握技術關鍵搶佔市場先機!
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時間 & 地點
2021年9月29日 下午2:00 – 下午6:00 [GMT+8]
Webinar
活動簡介
5G、電動車、智慧物聯網等終端應用市場需求持續看漲,推升第三代半導體(GaN/SiC)功率元件及功率半導體(MOSFET/IGBT)等的技術及市場的成長。據 SEMI(國際半導體產業協會)功率暨第三代半導體晶圓廠展望報告,全球功率暨第三代半導體晶圓廠設備支出,2022 年預計成長至約 85 億美元,年複合成長率(2017~2022)高達 15%。合適的EDA工具就成了這些新技術的研發與設計導入過程中的重要助力。
本次線上研討會,將邀請Siemens EDA原廠技術專家,介紹如何使用Tanner L-Edit快速完成Layout 及使用Calibre驗證 Design Rule Check (DRC),掌握技術關鍵搶佔市場先機!
活動單位:恩萊特科技股份有限公司 – Siemens EDA授權代理商
活動對象:
- 半導體產業之研發設計、製造、封測、工程、產品、製程等專業人員
- IOT物聯網、MEMS微機電、被動元件等相關應用之專業人員
活動日期:9/29 (三) 14:00
活動地點:線上研討會
活動講師:Vincent Lai, Applications Engineer Consultant, Siemens EDA
報名須知
- 本活動名額有限,主辦單位保留報名資格之最後審核,將以主題及屬性符合者為優先考量。為加速審核,敬請使用公司電子信箱報名。
- 通過審核者,系統將於活動前一天以電子郵件方式寄發線上研討會連結您的電子信箱,以示您的出席資格。
- 若因不可預測之突發因素,主辦單位得保留研討會課程及講師之變更權利。
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