考量熱效應的2.5D IC晶粒擺放設計:結合SP-Tree與熱優化框架
- Enlight Technology
- Sep 19
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2.5D IC架構下的設計挑戰
隨著摩爾定律接近物理極限,半導體產業正轉向2.5D與3D IC技術。2.5D整合架構透過interposer(中介層)將多顆chiplet(晶粒)結合,具備異質整合彈性,但也面臨擺放配置與熱管理的複雜挑戰。本研究提出一套可同時進行布線長度優化與熱效應分析的2.5D晶粒配置設計框架。

擺放優化架構:兩階段處理流程
整體設計流程分為兩階段:
初始擺放階段使用SP-Tree(Sequence Pair Tree)進行配置,優化晶粒間的布線長度。
後處理階段則納入熱模擬資料,進一步調整晶粒位置以降低熱集中現象。
設計考量包括interposer尺寸限制、晶粒間間距要求等,作為優化演算法的初始條件。
SP-Tree方法:比CSP-Tree更具效率的結構
SP-Tree比舊有CSP-Tree具更高的表示效率與實體可行性,能避免產生無效或重複解。其透過平行分支界限(Branch-and-Bound)法進行深度搜尋,每個節點代表晶粒的旋轉方向與擺放序列(例如朝北、東等),有助於快速收斂至可行解。
空白區域最佳化:分層次的晶粒移動策略
為提升晶粒間空間利用效率,本系統採用四步驟優化方式:
虛擬晶粒移動(不受物理限制)進行初步調整。
單一晶粒微調以修正局部空間。
固定與可動晶粒交互調整。
多晶粒群組協同優化。
此層次式策略提升空白區域的使用效率,為後續熱優化提供空間彈性。
熱效應處理:區域與群體的雙重移動策略
使用64×64×5的三維格點模擬整體熱分布,並透過SuperLU矩陣求解器提升溫度計算效率。熱優化階段包括:
單晶粒移動:於容許區域內調整高溫區晶粒位置。
群組晶粒移動:同時考量多顆晶粒,進行整體熱分布優化。
此方式可有效降低局部熱點,同時保持布線品質。
實驗結果:兼顧布線與熱效能
系統以C/C++實作並在Intel Xeon平台上測試。結果顯示:
相較其他方法,布線長度改善約1.035%,處理速度提升達156倍。
熱效能方面,最高溫降達8.214°C,大多測試情境下溫度控制在85°C內,布線長度僅增加5.376%。
結論
本文提出之SP-Tree擺放方法與熱效應結合的設計框架,在晶粒數約10顆以內時表現穩定。其在物理可行性、熱分布與布線長度間取得良好平衡,適用於當前2.5D IC設計需求。
參考資料
[1] H.-W. Chiou, J.-H. Jiang, Y.-T. Chang, Y.-M. Lee, and C.-W. Pan, "Chiplet Placement for 2.5D IC with Sequence Pair Based Tree and Thermal Consideration," National Yang Ming Chiao Tung University, Jan. 17, 2023.
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