By Sara Khalaf 對稱性在積體電路設計中扮演關鍵角色，有助於確保元件行為平衡、降低失配風險，並提升良率。然而，驗證對稱性傳統上是一項繁瑣且耗時的工作。許多設計人員常常需要花費大量時間手動檢查佈局，或撰寫複雜的驗證規則，卻仍可能在設計流程的後期，甚至是晶片製造後，...

在現今 IC 設計節奏飛快的市場裡，時間就是競爭力。你可能也曾經歷過這樣的狀況：所有佈局都已就緒，卻在簽核階段才被 DRC（設計規則檢查）攔下，導致反覆修正、無止盡的執行等待，讓時程一延再延，甚至壓縮後段製程的驗證時間。 Siemens...

By Bassem Riad 隨著製程幾何尺寸持續縮小，計算光學對 CPU 資源的需求日益提高，不僅需要更強大的運算能力，還需要更多資源來支援日益複雜的演算法與更高精度的元件模型。執行如光學鄰近效應修正（OPC）、光罩製程修正（MPC）以及光罩資料準備（MDP）等...

在進行設計規則檢查（DRC）除錯時，您是否也曾為了開啟幾百 GB 的 RDB（結果資料庫）檔案、處理數百萬條錯誤訊息而感到頭痛？傳統的 GUI 篩選方式，不僅耗時，也佔用大量記憶體資源，導致整體效率低落。Siemens 推出的 Calibre® RVE...

By Jeff Wilson 身為一位積體電路設計工程師，你知道要達成最佳佈局不只是通過設計規則檢查（DRC）這麼簡單——更重要的是在電性效能、製造可行性與上市時程壓力之間取得平衡。一個經過良好優化的設計不僅能減少昂貴的反覆修正週期，還能確保更佳的效能並加快產品上市速度。...

By Matthew Hogan 隨著產業不斷突破 IC 設計的極限，對於高效設計驗證工具的需求也變得愈發關鍵。此時，Siemens 的 Insight Analyzer 登場，這是一項改變遊戲規則的解決方案，正在革新工程師從 IC...

By John Ferguson 面臨的挑戰：傳統 DRC 驗證方式已難以應付現今需求……積體電路設計日益複雜且自動化程度提高，使得傳統的設計規範檢查（DRC）方法變得不再有效。這些早期為較簡單、手動佈局所設計的 DRC...

By Design With Calibre 這是一張 Calibre 多重任務提交圖形介面（GUI）的螢幕擷圖，畫面中顯示所有任務的狀態，以及正在執行任務的詳細紀錄。 透過 Calibre 多重任務提交圖形介面 (GUI)，您能更有效率地執行 IC 設計驗證任務...

在矽光子設計領域，一直存在著令工程師頭痛的技術難題：如何有效驗證複雜的光子器件設計？西門子數字工業軟體公司與 GlobalFoundries 的最新合作，為業界提供了一個革命性的解決方案。透過整合 Calibre® nmPlatform 與 GF Fotonix™...