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資源中心

透過恩萊特科技提供的電子書、白皮書和隨選網路研討會等豐富內容,掌握最新技術資訊

The power of shift-left DRC

使用 Calibre nmDRC Recon進行前期驗證 DRC 的強大效能

探索 Siemens Calibre nmDRC Recon 如何協助 IC 設計團隊加速 DRC 檢查流程、提升除錯效率,並透過前期驗證策略,減少運算資源與產品上市時間。

Xpedition design and manufacturing

Xpedition 可製造性設計

本文為 Xpedition 可製造性設計(DFM, Design for Manufacturing)的功能與優勢介紹,說明如何透過 Siemens Xpedition 平台整合即時 DFM 分析、Valor NPI 技術支援與元件庫資源,有效提升 PCB 設計階段的製造可行性與效率。針對製造問題的即時檢查與修正,幫助企業加速新產品導入(NPI)、縮短時程並降低成本與風險。

High Speed PCB Services

高速 PCB 服務

提供基於 Siemens HyperLynx 的高速 PCB 設計分析服務,協助工程團隊掌握訊號完整性(SI)、電源完整性(PI)與 EMI/EMC 的挑戰,從設計初期即導入最佳實踐,加快產品上市、降低設計風險與成本。

Layout driven design with L-edit Photonics

使用 L-EDIT Photonics 進行 Layout 驅動設計

隨著 CMOS 技術進步,光子積體電路 (PIC) 的設計和製造變得更加可行,但也帶來了全新的物理和分析挑戰。白皮書深入探討 SiDx, Inc. 如何運用 L-Edit Photonics 克服這些挑戰,成功實現積體光子的創新應用。

HyperLynx full-wave solver

HyperLynx full-wave solver從晶片到系統的3D全波電磁模擬

HyperLynx Full-Wave Solver 是西門子開發的 3D 全波電磁求解器,專為晶片、封裝與系統級模擬設計。採用加速邊界元素技術,兼具 Maxwell 方程精確度與高效能,支援 SI、PI 與 EMI 分析,並可無縫整合至 Xpedition 設計流程,加速驗證與優化。

Advancing silicon
photonics physical
verification through
innovation

透過創新推進矽光子實體驗證技術

本白皮書說明如何透過現有 EDA 工具的擴充與創新,解決矽光子設計中的驗證挑戰,並提供自動化、標準化的流片流程。

Valor NPI Fact Sheet

Valor NPI ‒ 幫助您最佳化可製造性設計

在 PCB 設計導入量產前,製造可行性分析至關重要。白皮書內說明了如何透過 Valor NPI 智慧化並行 DFM 流程,於設計早期即發現潛在問題,減少改版次數並提升產品品質與導入效率。

Efficient Design Techniques in L-Edit Advanced

GDS Layout平台必學!L-Edit高效設計技巧全解析/進階

隨著半導體產業的高速發展,IC設計人員正面臨著嚴峻的技術與產品上市時間的挑戰,一個高效且易用的設計平台扮演了關鍵的角色。

基礎課程中,我們將介紹L-Edit的實用技巧,也將進一步帶你了解L-Edit的強大優勢所在,幫助您提升設計效率!

HyperLynx DRC Standard and Developer

HyperLynx DRC標準版與開發者版

HyperLynx DRC 標準版與開發者版是高速且強大的電性設計規則檢查工具,支援 PADS®、Xpedition® 等主流 PCB 流程,針對 SI、PI、EMI/EMC 與安全性進行全面驗證。標準版內建 46 項檢查,開發者版擴展至 63 項,並支援使用 JavaScript 或 VBScript 撰寫自訂規則。

From proof-of-concept to product - Initial design of a MEMS sensor

從概念驗證到產品 –MEMS 感測器的初始設計

這篇白皮書聚焦於使用 PMUT 技術開發 MEMS 感測器,搭配 Siemens EDA 工具與 OnScale 雲端模擬,完整呈現從設計、模擬到系統整合的流程,助力物聯網感測應用快速實現。

HyperLynx SI DDR SerDes SI

DDR、SERDES 與通用訊號完整性

在高速數位設計中,信號完整性分析是系統穩定的關鍵。白皮書介紹如何透過 HyperLynx SI 的自動化流程與高精度建模,優化 DDRx 與 SerDes 設計與驗證。

Efficient Design Techniques in L-Edit Basics

GDS Layout平台必學!L-Edit高效設計技巧全解析/基礎

隨著半導體產業的高速發展,IC設計人員正面臨著嚴峻的技術與產品上市時間的挑戰,一個高效且易用的設計平台扮演了關鍵的角色。

在進階課程中,我們準備了L-Edit的最新增強功能,內容涵蓋編輯群組、選擇管理器、UPI指令、FinFET特性支援、Layout著色管理等主題,幫助您提升設計效率!

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7F.-3, No. 295, Sec. 2, Guangfu Rd.,

East Dist., Hsinchu City 300195, Taiwan

T +886-3-602-7403
F +886-3-563-0016

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