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寬能隙元件技術暨未來應用趨勢線上研討會

5月26日 週四

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Webinar

在新型功率元件Layout設計上經常會遇到各種任意曲線與對稱的結構設計需求;此外功率元件的設計也沒有晶圓廠設計套件(Design Kit)的支援,經常需要以人工的方式對Layout進行繁瑣的驗證和檢查。 面對以上挑戰,Siemens EDA技術顧問將詳細介紹Tanner L-edit如何克服元件多樣化、參數不連續及幾何形狀複雜的Layout問題。以及藉由Calibre及相關DRC驗證技術,確保準確的設計驗證,降低光罩錯誤成本,縮短產品上市時程,提升半導體功率元件的設計效率。

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寬能隙元件技術暨未來應用趨勢線上研討會
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時間 & 地點

2022年5月26日 上午10:00

Webinar

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7F.-3, No. 295, Sec. 2, Guangfu Rd.,

East Dist., Hsinchu City 300195, Taiwan

T +886-3-602-7403
F +886-3-563-0016

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