Backend AMS IC Layout 與 Calibre 物理驗證研習會-台北場
8月24日 週一
|南港IC設計育成中心
1. 學員可自行攜帶電腦,當天提供正版授權軟體,實際上機操作。 2. 本課程提供預先準備好的test case,透過實際的案例應用,快速上手。 3. 深入淺出的講解,快速了解目前就好上手的physical layout與DRC/LVS驗證流程。 4. 講師現場互動,討論實際案例,如何利用工具解決問題,讓您確實掌握軟體要領。
時間 & 地點
2020年8月24日 下午1:00 – 下午4:30
南港IC設計育成中心, 115台灣台北市南港區園區街3-2號H棟9樓
活動簡介
主辦單位:南港IC設計育成中心
協辦單位:恩萊特科技股份有限公司 Enlight Technology Co., Ltd.
Mentor, A Siemens Business
會議特色:
1.學員可自行攜帶電腦,當天提供正版授權軟體,實際上機操作。
2.本課程提供預先準備好的test case,透過實際的案例應用,快速上手。
3.深入淺出的講解,快速了解目前就好上手的physical layout與DRC/LVS驗證流程。
4.講師現場互動,討論實際案例,如何利用工具解決問題,讓您確實掌握軟體要領。
Tanner平台介紹:
1.適合中小型Analog/Power 為主的IC設計公司
2.目前市場上最易入手的完整IC design flow
3.完整的Hierarchical physical layout and verification
4.支援全球超過23個晶圓廠,150個FOUNDRY PDK
5.TSMC認證的Analog flow
6.支援完整的OpenAccess & iPDK
7.內建完整的Calibre DRC/LVS/xRC/RVE Engine
L-Edit Layout 工具特色介紹:
1.先進的3D分析工具
2.複雜幾何形狀繪製、布林運算
3.先進的光罩繪製(layout)與檢查(verification)功能
4.可直接匯入其他layout工具technology and display file
5.DRC即時檢查功能及整合foundry Calibre DRC/Layout sign off
6.Windows /Linux雙平台支援
課程大綱:
1. 1:00 -1:30 PM報到
2. Introduction to Tanner L-Edit
3. Creating New Designs and Design Management
4. Layout Design – Drawing & Editing
5. Derived Layers
6. Verification and Streaming In/Out
7. Hands on with L-Edit
8. Q&A