By Jonathan Muirhead 積體電路（IC）設計，特別是在類比與射頻（RF）電路領域，需極為注重細節，以確保良好的可製造性與高效能的晶圓品質。在此過程中，「匹配」與「對稱性」的概念扮演關鍵角色，尤其是在差分對與電流鏡等拓撲結構中更是如此。接下來，讓我們簡要探討這些原則的演進，以及近期在驗證技術方面的進展，以確保設計符合相關規範。 為什麼對稱性很重要 對稱性不只是外觀上的美觀問題。在積體電路設計中，對稱性對於電路的功能與可靠性至關重要。差動對中繪製相同的 MOSFET 元件，必須在整個佈局流程中保持基本一致，才能維持相同的電氣性能。圖一說明了對稱性如何有助於降低應力與跨長度變異（ACVL）所帶來的影響。 圖一：用於元件參數匹配的一維共心（交錯式）技術。 傳統對稱設計技術 為了確保元件能圍繞中心軸保持對稱，常使用如「共心設計（common centroid）」等技術。這對於減少晶片製程變異所造成的匹配誤差至關重要。此設計方式會將元件配置於以某一中心點或中心軸為基準的對稱位置，使製程變異對雙方元件的影響一致，進而維持其匹配特性。 維持對稱

By Sara Khalaf 對稱性在積體電路設計中扮演關鍵角色，有助於確保元件行為平衡、降低失配風險，並提升良率。然而，驗證對稱性傳統上是一項繁瑣且耗時的工作。許多設計人員常常需要花費大量時間手動檢查佈局，或撰寫複雜的驗證規則，卻仍可能在設計流程的後期，甚至是晶片製造後，才發現與對稱性相關的問題。 透過 Calibre 互動式對稱性檢查，設計人員現在可以在設計環境中即時掌握對稱性問題，這項強大的工具讓驗證任務得以前移至設計階段進行，更早發現並修正潛在問題，而非等到簽核階段或製造完成後才處理。這樣的方式可大幅減少設計迭代、降低返工成本，並加快送交製造的時程。此解決方案完全自動化、無需撰寫程式碼，只需幾下滑鼠點擊即可完成操作。 傳統對稱性檢查方法的挑戰 傳統的對稱性驗證方式存在多項限制，容易導致效率低落與設計時程延誤。以下是幾種常見技術及其缺點： 手動使用尺規測量： 設計人員需手動測量距離與元件位置以確認對稱性。這種方式不僅緩慢又繁瑣，也容易發生人為錯誤—若錯過關鍵測量，可能導致在設計流程後期才發現問題。 撰寫自訂規則： 有些設計人員會試圖撰寫自訂

在現今 IC 設計節奏飛快的市場裡，時間就是競爭力。你可能也曾經歷過這樣的狀況：所有佈局都已就緒，卻在簽核階段才被 DRC（設計規則檢查）攔下，導致反覆修正、無止盡的執行等待，讓時程一延再延，甚至壓縮後段製程的驗證時間。 Siemens 最新技術白皮書指出：透過「Shift-left」設計思維，也就是將 DRC 驗證前移至設計初期，搭配 Calibre nmDRC Recon 的在地化區域檢查策略，就能有效解決這個老問題。 拒絕設計修正地獄，Calibre nmDRC Recon 帶來什麼？ 在這份《The Power of Shift-left DRC Verification》白皮書中，Siemens 團隊分享了如何以 nmDRC Recon 為核心，打造更快、更輕量的驗證流程： 只針對「區域性檢查」執行，避免全佈局重跑、減少記憶體與 CPU 負擔 自動辨識「尚未完成」元件區域並套用 auto-waiver，避免誤報干擾修正焦點 搭配 Calibre nmLVS Recon SI 可快速排除短路、加速迭代收斂 結合split-deck平行執行

By Bassem Riad 隨著製程幾何尺寸持續縮小，計算光學對 CPU 資源的需求日益提高，不僅需要更強大的運算能力，還需要更多資源來支援日益複雜的演算法與更高精度的元件模型。執行如光學鄰近效應修正（OPC）、光罩製程修正（MPC）以及光罩資料準備（MDP）等 Tapeout 後流程（PTOF）任務，已經逼近傳統內部部署資源的極限，導致工作負載難以預測並面臨重大的擴展性挑戰。 Siemens EDA 為 AWS 所打造的參考環境，透過關鍵優化來因應這些挑戰，包括動態擴展以最大化資源使用率與執行效率，並透過硬體監控來微調運算實例的類型。Cloud Flight Plans 則引導使用者順利遷移至雲端環境，同時 Siemens EDA 也提供強大的叢集管理工具與大規模擴展能力。 雲端：解決長期以來難題的方案 雲端運算已被證實是解決 EDA 公司多年來運算挑戰的有效方案。以下是雲端運算在 Tapeout 後流程中之所以具備優勢（且日益成為必要選擇）的幾個原因： 成本效益： 省去前期資本投入，改採隨用隨付的計費模式，並可利用 AWS 的 Spot I

在進行設計規則檢查（DRC）除錯時，您是否也曾為了開啟幾百 GB 的 RDB（結果資料庫）檔案、處理數百萬條錯誤訊息而感到頭痛？傳統的 GUI 篩選方式，不僅耗時，也佔用大量記憶體資源，導致整體效率低落。Siemens 推出的 Calibre® RVE 批次篩選流程，提供了一種更聰明、更快速的除錯選擇，讓設計團隊能夠專注處理最關鍵的問題，大幅提升 tapeout 效率。 為什麼選擇 Calibre RVE 批次篩選？ 避免完整載入超大 RDB：批次篩選流程可在不載入整個 RDB 的情況下，根據篩選條件產出較小的 RDB 檔案。 記憶體資源大幅下降：例如，從一個 110GB RDB 中萃取部分檢查結果的過程中，記憶體使用量從 77.7GB 降到 1.5～10.5GB。 執行效率明顯提升：相比 GUI 篩選需 1 小時，批次篩選與載入所需總時間不到 1 小時，還能一次產出多組針對性資料。 彈性建構篩選條件：支援檢查名稱、屬性範圍（如 CD 值）等邏輯組合，建立高度客製的篩選條件。 跨團隊重複使用：篩選語法可簡易分享與重用，強化團隊協作效率。 常見應用

By Jeff Wilson 身為一位積體電路設計工程師，你知道要達成最佳佈局不只是通過設計規則檢查（DRC）這麼簡單——更重要的是在電性效能、製造可行性與上市時程壓力之間取得平衡。一個經過良好優化的設計不僅能減少昂貴的反覆修正週期，還能確保更佳的效能並加快產品上市速度。然而，即使有先進的設計工具，要在符合嚴格的 DRC 標準的同時，還要針對電遷移與 IR 壓降（EMIR）進行優化，仍然是一項重大挑戰。 IC 設計師需要能簡化設計流程，同時維持良率與電源完整性的工具。隨著半導體佈局愈加複雜，如何同時確保 DRC 合規與電性效能，變得愈發困難。Calibre DesignEnhancer（DE）提供一套以自動化為核心的解決方案，協助設計師有效率地優化佈局。現在，就讓我們來探討 IC 設計師面臨的主要挑戰，以及智慧自動化如何強化整體設計流程。 IC 設計的瓶頸：那些拖慢設計流程的挑戰 Place-and-route（P&R）工具在插入電路元件與進行連線方面表現不錯。然而，由於 P&R 解決方案無法全面理解所有設計規則，為了確保設計能通過 DRC..

By Matthew Hogan 隨著產業不斷突破 IC 設計的極限，對於高效設計驗證工具的需求也變得愈發關鍵。此時，Siemens 的 Insight Analyzer 登場，這是一項改變遊戲規則的解決方案，正在革新工程師從 IC 設計早期階段開始進行驗證的方式。Insight Analyzer 協助設計人員識別並解決與設計特定相關的潛在電路可靠度問題，進而提升對電路設計能夠一次成功流片的信心。它的使用時機早於其他可靠度分析工具，運作於前佈局的網表上。 前期驗證策略：及早發現問題 在多數 IC 設計專案中，時間至關重要。傳統上，驗證工作通常被安排在設計流程的後期。然而，這種作法可能導致昂貴且耗時的重工，因為許多本可以在早期發現的問題，往往要到後期才會浮現。 Insight Analyzer 採取了不同的方式，應用「前期驗證」的策略。透過在設計流程的前佈局階段即整合漏電與可靠度驗證，工程師能在問題擴大前及早辨識並處理潛在風險。這不僅節省時間與資源，也有助於確保最終產品能達到最高品質與可靠度的標準。 圖一：透過 Insight Analyzer.

By John Ferguson 面臨的挑戰：傳統 DRC 驗證方式已難以應付現今需求……積體電路設計日益複雜且自動化程度提高，使得傳統的設計規範檢查（DRC）方法變得不再有效。這些早期為較簡單、手動佈局所設計的 DRC 工作流程，是以「邊修邊建」的方式進行——在完成佈局後執行檢查，標記違規處，再反覆修正。這套方法在過去尚能應付，但現在的設計通常具有多層結構、層級架構，且常由分散團隊共同開發，使得全圖 DRC 驗證成為設計流程中的一大瓶頸。 傳統 DRC 為何無法勝任現今設計需求？ 執行時間過長： 隨著設計規則日益複雜，驗證所需時間呈指數型增加。 佈局尚未完成： 許多設計是分階段完成的，使得在流程早期進行完整驗證變得不切實際。 除錯效率低： 全域性的規則違反通常難以定位與修正，因其問題不具區域性。 影響是什麼？ 團隊在除錯與驗證上遭遇顯著延遲，導致設計定案（tape-out）時程延後，資源消耗也隨之增加。 解決方案：採用 Calibre nmDRC Recon 的前期驗證策略 面對上述挑戰，Siemens 推出 Calibre nmDRC...

By Design With Calibre 這是一張 Calibre 多重任務提交圖形介面（GUI）的螢幕擷圖，畫面中顯示所有任務的狀態，以及正在執行任務的詳細紀錄。 透過 Calibre 多重任務提交圖形介面 (GUI)，您能更有效率地執行 IC 設計驗證任務 隨著積體電路（IC）日益複雜，設計團隊在驗證這些精密設計時面臨越來越多的挑戰。半導體技術的進步，使 IC 的規模與功能達到前所未有的高度，也因此需要更先進且高效率的驗證流程，來確保設計的完整性與可靠性。 設計團隊目前面臨的主要難題之一，是如何管理龐大的驗證工作量，以全面驗證現代 IC。隨著設計中包含多個 IP、採用多元的方法學，以及不斷增加的檢查與測試項目，整體驗證流程若仍以人工方式協調與執行，將變得既繁瑣又容易出錯。 有鑑於這些挑戰，Siemens EDA 推出了 Calibre Interactive 多重任務提交（MJS）圖形介面（GUI），其中整合了全新與更新的功能。MJS GUI 是一套強大的工具，可簡化驗證流程，並為設計團隊帶來實質效益。在本篇部落格文章中，我們將深入探討