抓住高速運算商機！矽光子晶片的設計流程與技術

隨著元宇宙及車聯網等各項新興應用蓬勃發展，帶動高速運算需求湧起，矽光子的高速資料傳輸、高頻寬及低功耗，正是實現高速運算的關鍵。如何藉由光子設計自動化 (EPDA) 克服矽光子從元件、系統到製程的技術挑戰，實現矽光子成為可切實量產的產品？

本研討會將從製程、SDL、Layout到Circuit Simulation等角度切入，深入探究設計應用中的挑戰，完整剖析各種矽光子技術與創新實作要領，分享矽光子晶片的新契機，一起探討矽光子背後的關鍵技術以及如何有助增進產品研發實戰力！

活動單位：恩萊特科技股份有限公司 – Siemens EDA授權代理商

活動對象

• 晶片設計、光電科技、半導體技術及應用之相關人員
• 光電、電機、電子、奈米工程及微系統相關系（所）學者專家及研究生

議程資訊

13:50 – 14:00 報到

14:00 – 14:40 Silicon Photonics Integrated Circuit Design Platform

• The evolution of commercialized SiPh chips
• SiPh support by the leading foundries
• The major EDA/EPDA’s solution
• The PDK and compact model standardization effort
• The emerging EPDA with E/O co-design flow

14:40 – 15:20 Tanner L-Edit Photonics – 矽光子晶片設計流程

• Layout設計/驗證/除錯
• Layout to netlist 與 Optical simulation整合
• Foundry PDK for Photonics

活動講師

• 恩萊特科技, 矽光子技術顧問
• Siemens EDA, AE顧問

報名須知

• 本活動名額有限，主辦單位保留報名資格之最後審核，將以主題及屬性符合者為優先考量。為加速審核，敬請使用公司電子信箱報名。
• 通過審核者，系統將於活動前2天以電子郵件方式寄發報到連結您的電子信箱，以示您的出席資格。
• 若因不可預測之突發因素，主辦單位得保留研討會課程、地點及講師之變更權利。