GDS Layout平台必學！L-Edit高效設計技巧全解析 (進階-線上場)

活動分為兩階段，分別是基礎及進階，基礎課程中，我們將介紹L-Edit的實用技巧，也將進一步帶你了解L-Edit的強大優勢所在。實體活動現場更有實作練習及測驗環節，讓您透過親身操作深入理解工具的核心。而在進階課程中，我們準備了L-Edit的最新增強功能，內容涵蓋編輯群組、選擇管理器、UPI指令、FinFET特性支援、Layout著色管理等主題，幫助您提升設計效率！

活動對象

• L-Edit用戶優先報名
• 晶片 GDS Layout 工程師/經理/主管
• IC 設計、IoT物聯網、MEMS微機電、Power Devices功率元件(第三代半導體, SiC/ GaN/MOSFET/IGBT)、被動元件Mask、OSAT 封裝(RDL/GDS Layout)、矽光子等相關設計開發

活動講師

• Vincent Lai, Applications Engineer Consultant, Siemens EDA

課程大綱

09:50 – 10:00 Registration

10:00 – 11:00

• What’s New in Tanner L-Edit v2023.2?
• Photonics Features 矽光子設計流程
• Integration with MEMS Pro MEMS設計流程
• Parametric cell/T-Cell 參數化設計單元套件設計
• TCL/Python Script 加速自動化
• Node Highlighting 連線確認
• Pad Cross-Reference
• Wafer tool
• Tanner DRC & Calibre integration
• Q & A

報名須知

• 本活動名額有限，主辦單位保留報名資格之最後審核，將以主題及屬性符合者為優先考量。為加速審核，敬請使用公司電子信箱報名。
• 通過審核者，系統將於活動前3天以電子郵件方式寄發報到連結您的電子信箱，以示您的出席資格。
• 若因不可預測之突發因素，主辦單位得保留研討會課程、地點及講師之變更權利。