top of page

Thu, Jun 06

|

Webinar

GDS Layout平台必學!L-Edit高效設計技巧全解析 (進階-線上場)

隨著半導體產業的高速發展,IC設計人員正面臨著嚴峻的技術與產品上市時間的挑戰,一個高效且易用的設計平台扮演了關鍵的角色。因此,我們規劃了這場L-Edit Workshop,為您打破迷霧,走向高手之路!

GDS Layout平台必學!L-Edit高效設計技巧全解析 (進階-線上場)
GDS Layout平台必學!L-Edit高效設計技巧全解析 (進階-線上場)

時間 & 地點

Jun 06, 2024, 9:50 AM – 11:00 AM GMT+8

Webinar

活動簡介

活動分為兩階段,分別是基礎及進階,基礎課程中,我們將介紹L-Edit的實用技巧,也將進一步帶你了解L-Edit的強大優勢所在。實體活動現場更有實作練習及測驗環節,讓您透過親身操作深入理解工具的核心。而在進階課程中,我們準備了L-Edit的最新增強功能,內容涵蓋編輯群組、選擇管理器、UPI指令、FinFET特性支援、Layout著色管理等主題,幫助您提升設計效率!

活動對象

  • L-Edit用戶優先報名
  • 晶片 GDS Layout 工程師/經理/主管
  • IC 設計、IoT物聯網、MEMS微機電、Power Devices功率元件(第三代半導體, SiC/ GaN/MOSFET/IGBT)、被動元件Mask、OSAT 封裝(RDL/GDS Layout)、矽光子等相關設計開發

活動講師

  • Vincent Lai, Applications Engineer Consultant, Siemens EDA

課程大綱

09:50 – 10:00 Registration

10:00 – 11:00

  • What’s New in Tanner L-Edit v2023.2?
  • Photonics Features 矽光子設計流程
  • Integration with MEMS Pro MEMS設計流程
  • Parametric cell/T-Cell 參數化設計單元套件設計
  • TCL/Python Script 加速自動化
  • Node Highlighting 連線確認
  • Pad Cross-Reference
  • Wafer tool
  • Tanner DRC & Calibre integration
  • Q & A

報名須知

  • 本活動名額有限,主辦單位保留報名資格之最後審核,將以主題及屬性符合者為優先考量。為加速審核,敬請使用公司電子信箱報名。
  • 通過審核者,系統將於活動前3天以電子郵件方式寄發報到連結您的電子信箱,以示您的出席資格。
  • 若因不可預測之突發因素,主辦單位得保留研討會課程、地點及講師之變更權利。

分享活動

bottom of page