[免費報名]Mentor/ Tanner 類比/混合信號 IC設計平台研討會-新竹場
6月23日 週二
|清華大學-自強基金會 二樓
透過應用實例來分享目前業界主流EDA唯一針對類比為主成熟製程的設計平台- Tanner,數千位IC設計師已實際利用Tanner完整的混合信號IC設計工具及內置的業界黃金Sing off Calibre one DRC/LVS生產驗證,達到兼具導入成本及快速提升設計開發與tape out速度與質量。
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時間 & 地點
2020年6月23日 下午1:00 – 下午5:00 [GMT+8]
清華大學-自強基金會 二樓, Gaocui Rd, East District, Hsinchu City, Taiwan 300
活動簡介
研討會宗旨:
台灣的半導體產業鏈從 IC 設計,製造到應用有非常完整的分工系統; EDA 電子設計自動化軟體在產品設計的流程中扮演關鍵的角色,隨著 IC 設計與製程技術的不斷演進,IC 設計與製造的技術日趨複雜,工具平台亦顯如此,對於工具的依賴度與提升要求之外,進入門檻的降低,快速人才的培育養成,就顯得更加重要。
透過應用實例來分享目前業界主流EDA唯一針對類比為主成熟製程的設計平台- Tanner,數千位IC設計師已實際利用Tanner完整的混合信號IC設計工具及內置的業界黃金Sing off Calibre one DRC/LVS生產驗證,達到兼具導入成本及快速提升設計開發與tape out速度與質量。
藉由Tanner簡易且整合性高的Analog and Mixed Signal IC Design and Implementation平台,,協助更多的新創及中小型IC 設計團隊實現多樣的IoT Edge IC的開發應用。
Mentor Tanner EDA平台中著名的高效 L-Edit Layout 工具及物理驗證Design Rule Check讓多種需要更高彈性的Layout設計應用,如MEMS, Power Devices, mask, Packaging等, 提升Layout效率且提高設計生產的良率,更透過實際的操作展示具體呈現如何透過正確使用 EDA 工具讓您的設計開發工作事半功倍。
研討會議程摘要說明: