Siemens EDA Calibre xACT 寄生元件萃取工具的官方技術規格文件，針對先進奈米製程 IC 設計的後佈局分析需求所撰寫。

本文涵蓋 Calibre xACT 平台的核心萃取架構，包含 FinFET 製程節點的 FEOL 與 BEOL 幾何結構萃取技術、內建快速三維場求解器的運作原理、多重圖案化角落模擬機制，以及數位、類比、RF、MEMS 與矽光子等多類設計風格的支援範圍。此外，本文詳細說明基於網路的平行處理架構、時序簽核流程整合，以及與 Calibre nmLVS、nmDRC 的互操作能力。

關鍵技術指標包括：效能達前代解決方案的 10 倍、同步多角落萃取每新增一角落僅增加 15–20% 執行負擔，並可於單一工作日完成數百萬元件實例的全晶片萃取，規則套件已通過台積電 16nm 與三星 14nm 晶圓廠認證。

本白皮書最適合 IC 設計工程師、EDA 工具評估人員及半導體設計流程決策者，尤其是面對先進製程節點寄生元件萃取工具選型與 TAT 優化需求的技術主管與工程團隊。