Wed, Nov 25 | 南港IC設計育成中心

Backend AMS IC Layout 與 Calibre 物理驗證研習會-台北場 (1)

1. 學員可自行攜帶電腦,當天提供正版授權軟體,實際上機操作。 2. 本課程提供預先準備好的test case,透過實際的案例應用,快速上手。 3. 深入淺出的講解,快速了解目前就好上手的physical layout與DRC/LVS驗證流程。 4. 講師現場互動,討論實際案例,如何利用工具解決問題,讓您確實掌握軟體要領。
Registration is Closed
Backend AMS IC Layout 與 Calibre 物理驗證研習會-台北場 (1)

Time & Location

Nov 25, 2020, 1:00 PM – 5:00 PM
南港IC設計育成中心, 115台灣台北市南港區園區街3-2號H棟9樓

About the Event

主辦單位:南港IC設計育成中心

協辦單位:恩萊特科技股份有限公司 Enlight Technology Co., Ltd.

                  Mentor, A Siemens Business

會議特色:

1.學員可自行攜帶電腦,當天提供正版授權軟體,實際上機操作。

2.本課程提供預先準備好的test case,透過實際的案例應用,快速上手。

3.深入淺出的講解,快速了解目前就好上手的physical layout與DRC/LVS驗證流程。

4.講師現場互動,討論實際案例,如何利用工具解決問題,讓您確實掌握軟體要領。

Tanner平台介紹:

1.適合中小型Analog/Power 為主的IC設計公司

2.目前市場上最易入手的完整IC design flow

3.完整的Hierarchical physical layout and verification

4.支援全球超過23個晶圓廠,150個FOUNDRY PDK

5.TSMC認證的Analog flow

6.支援完整的OpenAccess & iPDK

7.內建完整的Calibre DRC/LVS/xRC/RVE Engine

L-Edit Layout 工具特色介紹:

1.先進的3D分析工具

2.複雜幾何形狀繪製、布林運算

3.先進的光罩繪製(layout)與檢查(verification)功能

4.可直接匯入其他layout工具technology and display file

5.DRC即時檢查功能及整合foundry Calibre DRC/Layout sign off

6.Windows /Linux雙平台支援

課程大綱:

1. 1:00 -1:30 PM報到

2. Introduction to Tanner L-Edit

3. Creating New Designs and Design Management

4. Layout Design – Drawing & Editing

5. Derived Layers

6. Verification and Streaming In/Out

7. Hands on with L-Edit

8. Q&A

Share This Event