Backend AMS IC Layout 與 Calibre 物理驗證研習會-台北場 (1)

主辦單位：南港IC設計育成中心

協辦單位：恩萊特科技股份有限公司 Enlight Technology Co., Ltd.

                  Mentor, A Siemens Business

會議特色：

1.學員可自行攜帶電腦，當天提供正版授權軟體，實際上機操作。

2.本課程提供預先準備好的test case，透過實際的案例應用，快速上手。

3.深入淺出的講解，快速了解目前就好上手的physical layout與DRC/LVS驗證流程。

4.講師現場互動，討論實際案例，如何利用工具解決問題，讓您確實掌握軟體要領。

Tanner平台介紹：

1.適合中小型Analog/Power 為主的IC設計公司

2.目前市場上最易入手的完整IC design flow

3.完整的Hierarchical physical layout and verification

4.支援全球超過23個晶圓廠，150個FOUNDRY PDK

5.TSMC認證的Analog flow

6.支援完整的OpenAccess & iPDK

7.內建完整的Calibre DRC/LVS/xRC/RVE Engine

L-Edit Layout 工具特色介紹：

1.先進的3D分析工具

2.複雜幾何形狀繪製、布林運算

3.先進的光罩繪製(layout)與檢查(verification)功能

4.可直接匯入其他layout工具technology and display file

5.DRC即時檢查功能及整合foundry Calibre DRC/Layout sign off

6.Windows /Linux雙平台支援

課程大綱：

1. 1:00 -1:30 PM報到

2. Introduction to Tanner L-Edit

3. Creating New Designs and Design Management

4. Layout Design – Drawing & Editing

5. Derived Layers

6. Verification and Streaming In/Out

7. Hands on with L-Edit

8. Q&A