隨著 IC 設計進入 FinFET 時代，填充不再只是在空白區域塞入虛擬多邊形那麼簡單。層平坦度、製造應力、蝕刻與微影變異性、多重圖案合規性，每一項都對填充提出了前所未有的嚴格要求。設計中動輒需要數十億個填充形狀，傳統的填充方法不僅產生龐大的資料庫，更拖慢了整個設計流程。

Calibre YieldEnhancer 佈局修改平台正是為了解決這些挑戰而生。作為 Calibre 平台的一部分，它提供多種自動化解決方案，讓設計師能夠在確保 DRC 合規的前提下，最大化利用設計空間、提升良率與設計穩健性。