攜手Siemens EDA，以業界標準Calibre DRC為基礎，展示完整矽光子設計與驗證解方 光電學會許晉瑋副秘書長（中）、Siemens EDA鍾順桐業務協理（右）與恩萊特蘇正宇總經理（左）於現場就光電產業發展與產學合作進行交流。圖／恩萊特科技提供 恩萊特科技日前在台灣光電年度盛會 OPTIC 2024 中隆重展示完整的矽光子設計與驗證解決方案，涵蓋從元件設計到量產的全方位支持，為台灣矽光子相關產業帶來更高效、更可靠的設計流程。當前全球半導體產業正處於快速創新的關鍵時期，AI、高速運算及異質整合等技術迅速發展，使設計效率與可靠性成為產業的重要課題。 為應對這些挑戰，恩萊特科技致力提供從IC到系統層級的全面EDA解決方案，涵蓋IC、矽光子、MEMS、PCB 及製造相關應用，滿足不同層次的設計需求。 恩萊特科技展出的核心解決方案主要聚焦於三大領域：首先是元件設計，透過Siemens EDA的L-Edit及Photonics解決方案，工程師能在Layout平台直接完成曲線光波導設計，大幅簡化設計流程，特別適合IC、PIC、MEMS等高精密元件的

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